日經(jīng)新聞8日訊，去年日本專利申請件數(shù)同比下降4%，為32萬件，位列中國、美國之后。而中國申請件數(shù)同比增26%，為82萬件，是日本的2.5倍，中日兩國差距逐漸拉大。

日本專利申請書在05年為42萬件，居全球之首。但06年被美國超越，10年被中國超越，淪落第三。

專利申請件數(shù)是反映該國市場魅力的一面鏡子。日本專利申請持續(xù)低迷的原因有，一是因人口減少和專利審查嚴格，國外企業(yè)感受不到在日本申請專利的好處。二是日本國內(nèi)研究經(jīng)費不足。

如果這種局面持續(xù)，將導(dǎo)致技術(shù)創(chuàng)新不足、經(jīng)濟增長緩慢和研究經(jīng)費進一步被削減的惡性循環(huán)。

專利有效期為從申請之日起20年，如果申請時間長，那么專利使用權(quán)就會變短。現(xiàn)在日本專利申請期平均為2年5個月，而中國和韓國則為1年10個月，這導(dǎo)致大企業(yè)在日研究和申請專利意愿降低。

日本專利管理部門計劃在2023年將專利申請期縮短至1年2個月，速度是現(xiàn)在的2倍，為世界最快。

（大阪經(jīng)商室）